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图片来源:摄图网
光刻机是半导体制造中至关重要的设备,用于制造集成电路。目前,光刻机市场正呈现出稳步增长的态势。随着5G、人工智能、物联网等新兴技术的不断发展,对芯片的需求不断增加,推动了光刻机市场的发展。同时,新一代芯片制造工艺的推出,也要求光刻机具有更高的分辨率、更快的速度和更大的制造尺寸。因此,光刻机制造商在不断进行技术创新,推出更加先进的产品来满足市场需求。
据业界信息,High NA EUV技术是EUV技术的进一步发展。NA代表数值孔径,表示光学系统收集和聚焦光线的能力。数值越高,聚光能力越好。荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)的High NA EUV设备是芯片制造商制造2nm工艺节点芯片的必备设备,每台设备的成本超过5000亿韩元。目前,ASML的High NA EUV光刻机仅有两台,如此限量版的EUV关键设备必然无法满足市场对先进制程芯片的需求,为此ASML布局步伐又迈一步。
ASML首席财务官Roger Dassen在近期一次电话会议上透露,台积电和英特尔这两个公司最大客户将获得高数值孔径极紫外(EUV)光刻机,将于年底前交付。
英特尔已率先订购并接收了全球首台High NA EUV光刻机,该设备已于2023年12月底运抵英特尔位于俄勒冈州的芯片制造工厂。至于台积电,目前尚未明确其接收设备的具体时间,但该公司代表表示,他们正与半导体设备供应商紧密合作,以确保计划的顺利进行。
据悉,ASML的这种光刻机造价3.5亿欧元(约合3.8亿美元),相当于两架空中客车A320飞机的重量。阿斯麦是全世界唯一一家使用极紫外技术的光刻机制造商,对其产品的需求是该行业发展轨迹的试金石。
受此影响,ASML股价周三上涨8.1%,市值达到3770亿欧元(约合4100亿美元),首次超过法国奢侈品巨头路威酩轩集团,成为欧洲第二大上市公司。
近期也是台积电“换帅”期,6月4日,台积电在股东大会上宣布,总裁魏哲家正式接替刘德音担任公司董事长一职。这意味着,魏哲家成为台积电多年来首位同时担任董事长和CEO职务的人。自此,台积电正式进入由魏哲家全面掌舵时代。
谈到台积电竞争与前景,魏哲家直言,台积电技术领先同业,占据有利位置,到目前没有人可以竞争,会继续保持优势,持续进步技术,永远不会停下来。
回看光刻机行业发展情况:
——光刻机是芯片制造、高端光刻胶研发的重要装备
光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备,也是光刻胶材料研发的重要设备,根据晶瑞电材的集成电路制造用高端光刻胶研发项目信息,设备及安装费占总投资额的69%,而光刻机就占设备及安装费的44%。
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——全球光刻机销量情况
目前,全球光刻机市场的集中度极高,前三大厂商的市场份额占比达90%以上。数据显示,2015-2020年,全球光刻机销售量总体增长,2020年达413台,同比增长16.7%。
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——荷兰ASML公司占全球光刻机龙头地位
从TOP3企业的竞争格局来看,2020年,荷兰ASML公司占比63%,出货量达到258台,力压尼康和佳能:
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——EUV光刻机单台价值高达1.5亿欧元
由于EUV光刻机的高技术壁垒,也造就了其高价值特征。当前,全球仅有荷兰的ASML公司有能力生产EUV光刻机。
根据该公司的EUV光刻机售价显示,2018年以来,该公司的EUV光刻机价格也不断上扬,2021年7月4日,约为1.54亿欧元/台,折合人民币11.7亿元(以1欧元兑7.6元人民币换算)。
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