芯片禁令升级，留给中国队的时间不多了

6月7日消息，ASML公司CEO公开表示，美国严厉的芯片管控规定，只会倒逼中国厂商进步更快。

ASML CEO表示，多年来，公司都不用担心设备的去向会受到政治限制，但突然之间，这却变成了全世界最重要的话题之一。

过去一段时间，美国一直在向荷兰施压，以阻止中国获得关键的半导体技术。去年，荷兰政府宣布了新的半导体设备出口管制措施，主要针对先进制程的芯片制造技术，阿斯麦首当其冲。

根据ASML今年1月1日发布的声明，荷兰政府撤销的是2023年颁发的NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的出口许可证，“此禁令将影响少数在华客户”。

为进一步遏制中国的科技发展，美国日前还要求荷兰政府对中国境内部分阿斯麦设备的维修服务增加限制。

中国已连续三个季度成为ASML最大市场，今年第一季度，对华出口占到ASML系统销售额的49%。

ASML十分担忧对华出口进一步受限。公司CEO甚至表示，限制措施会让中国更有动力开发自己的高端技术（光刻机），“施加的限制越多，就越会促使对方自力更生。”

在中美长期意识形态对立情况下，国产替代自主可控是必须的！近期国家三期大基金成立！比一期、二期规模还大，这也意味着政策层面大力支持，回顾国家大基金一期、二期发行后的时间节点，均催生出了半导体行情，当然这次半导体行情也值得期待！

2014年，一期重点是投向了制造环节，为半导体的国产替代做准备，为中芯国际、长江存储等核心公司后来的成长奠定了基础。

2019年，二期更精细化，主要关注半导体设备、材料、EDA等上游领域，尤其是原先技术空白的环节。

2024年，三期，预计将进一步细化，往高端制程方向加大投资。其一，关键技术的突破，包含核心设备、材料，比如光刻机、光刻胶；其二，和AI相关技术的突破，尤其是AI芯片和HBM环节，这两个是目前国产算力底座的瓶颈。

A股光刻机相关公司梳理：

张江高科：通过子公司战略投资上海微电子装备有限公司，持有其重要股权，致力于推动“中国芯”国产光刻机的重大技术突破与产业化进程。

奥普光电：奥普光电的控股股东是长春光学精密机械与物理研究所，该研究所正在研发更高水平的光刻机曝光系统。

国林科技：子公司国林半导体臭氧设备产品从2022年下半年开始进行市场导入，2023年以来陆续在半导体、面板、科研等行业领域出货验证，该产品用于化学气相沉积（CVD）、原子层薄膜沉积（ALD）、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除等工艺中。

富乐德：已研发并量产14nm制程洗净工艺，并为光刻环节的溶胶显影、涂胶等设备提供精密洗净服务。

新莱应材：公司真空产品的AdvanTorr品牌以及气体产品的NanoPure品牌均可以应用到光刻机的设备中，公司的客户中已经包含光刻机设备的制造商。

同飞股份：公司液体恒温设备在半导体制造设备领域主要应用于光刻机、刻蚀机、PVD/CVD、研磨抛光机等关键设备的温度控制。

茂莱光学：公司为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件，是光刻机实现光线均匀性与曝光成像的关键模块。

京华激光：公司控股的美国菲涅尔制版科技公司是一家多年从事微结构光学技术研发及相关设备制造和维护的企业，在微结构光学方面具有较强的研发实力，尤其在全息光学、菲涅尔猫眼、水晶微结构、浅纹微结构、铂金浮雕等方面研发成果突出，先后研发出多台技术先进、性能突出、与光学制版有关的光刻机设备，并在全球范围内独家供应公司使用。

波长光电：在半导体应用领域，公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力。公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套，并已交付多套系统用于接近式掩膜芯片光刻工序。

晶方科技：公司下属荷兰ANTERYON公司服务国际领先光刻机厂商，部分产品运用于光刻机部件。

东方嘉盛：公司上半年向深圳海关申请设立寄售维修保税仓库已获批通过。七月初公司已经中标，将与国际头部芯片光刻机厂商合作，共同在深圳建设寄售维修保税仓库，为华南片区集成电路制造企业提供全天候快速响应的光刻机寄售维修服务。

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