斯迪克申请超疏水纳米多孔二氧化硅广角减反射膜

金融界 2024 年 7 月 23 日消息，天眼查知识产权信息显示，江苏斯迪克新材料科技股份有限公司,太仓斯迪克新材料科技有限公司申请一项名为“超疏水纳米多孔二氧化硅广角减反射膜及其制备方法“，公开号 CN202410663659.9，申请日期为 2024 年 5 月。

专利摘要显示，本发明公开了一种超疏水纳米多孔二氧化硅广角减反射膜及其制备方法，该减反射膜依次层叠设置的透明基材、界面过渡层、纳米多孔二氧化硅广角减反射层和防污层；其中，纳米多孔二氧化硅广角减反射层具有均匀且孔隙率可控的纳米网状孔隙结构。本发明使用不同比例的 SiAl 旋转靶材通过卷对卷磁控溅射调控膜层厚度以及结合湿法刻蚀、有机蒸镀技术，可制备超疏水纳米多孔二氧化硅广角 AR 膜。不同于传统的多层 AR 膜，超疏水纳米多孔二氧化硅广角 AR 膜可通过调节 SiAl 比例控制孔隙率，使其不再受限于材料折射率、镀膜精度以及多层结构膜的苛刻要求。本发明的制备工艺简单、稳定性高、适用于大面积、批量化卷对卷式生产，具有广阔的市场应用前景。

本文源自：金融界

作者：情报员