不止光刻机！还有它，全球90%都产自日本，一旦

都知道，光刻机是中美芯片博弈的关键环节。为了限制国产芯片的制造能力，老美限制光刻机出口，要求ASML公司、尼康、佳能等禁止向华供应先进的光刻机设备。而ASML公司的CEO曾经说过一句让人永生难忘的话，他说，就算公开图纸，中国大陆也造不出EUV光刻机。

这句话也彻底暴露了外企对中国制造的看法，它们从心底里觉得，中国技术落后，永远不可能在前沿科技领域超越。而老美之所以要在芯片领域对我国“卡脖”，也是如此，就是仗着自己的技术领先，想要让我们认输、妥协，任其摆弄。

但就算我们技术落后，就算我们无法超越，美西方算错了一点，低估了我们的骨气，“硬骨头”不是随便说说，哪有什么造不出，只是看我们要不要造，凭着这股子死磕到底的劲儿，我们连航母、航天飞船都能从无到有，从落后到领先，芯片怕什么？光刻机怕什么？

在过去这几年，中国芯片产业也取得了一些亮眼的成绩，尤其2024年，国产芯片的出口额再创新高，正式进入“万亿俱乐部”，而凭着这个好成绩，我国也超越了美国，成为了全球第一大芯片出口国，这就是美制裁的结果，搬起石头砸了自己的脚。

当然了，取得了成绩，但还没有到骄傲的时候，芯片制造的各个环节都可能被“卡脖”，唯有实现了全产业链自研，才能真正的强大起来。不止光刻机，还有它，光刻胶，全球90%都产自日本，一旦被“卡脖”，我们该如何应对呢？

什么是光刻胶，别小看这个“胶”，它是一种具有特殊光学特性的液体材料，通常会涂抹在晶圆上，在芯片制造的过程中，光刻机就可以利用它的光学特性，在表面制造出特性的图案以及结构，从而完成芯片制造。而且光刻胶和芯片的良品率以及制造效率挂钩，还是相当重要的。

实话实说，我国目前在光刻胶领域确实处于劣势，90%依赖进口，这也是很危险的。但我国科研机构早就注意到了这一点，并且也已经开始了研究，就是想要尽快攻克光刻胶难题，实现独立自主。

截止到目前，在光刻胶领域，有一个好消息，我国科研机构通过对不同材料的分析、筛选，通过不断调整配方、比例以及工艺等参数，终于找到了合适的材料以及配方，一旦我国能够研发出新型的光刻胶，绕开日企的垄断，或许可以改变行业格局，化被动为主动。

这个新型光刻胶的稳定性更强，而极限分辨率达到了120nm。太紫薇公司传来消息，这款光刻胶已经成功通过了质量验证，下一步就是量产了，期待国产光刻胶能够继续向前。

从芯片被“卡脖”事件就能看清楚美西方的“真面目”，而中国科技企业也应该认清一个现实，除了自己谁都靠不住，被再被“造不如买”蒙蔽了，自己有才是王道！对此，你怎么看呢？欢迎评论留言！